Title:
Projektionssystem
Document Type and Number:
Kind Code:
B4

Abstract:
Projektionssystem miteiner ersten Kippspiegelmatrix (3),einer zweiten Kippspiegelmatrix (5) undeiner Abbildungsoptik (4), die die erste Kippspiegelmatrix (3) auf die zweite Kippspiegelmatrix (5) abbildet,wobei jede Kippspiegelmatrix (3, 5) jeweils mehrere Kippspiegel aufweist, deren Kippachsen in einer Modulatorfläche liegen,dadurch gekennzeichnet, daßdie Modulatorfläche der ersten Kippspiegelmatrix (3) in einer Modulatorebene (E) und die Modulatorfläche der zweiten Kippspiegelmatrix (5) in der Modulatorebene (E) oder einer dazu parallelen Ebene angeordnet ist und daß zwischen den Kippspiegelmatrizen (3, 5) einerseits und der Abbildungsoptik (4) andererseits eine Umlenkoptik (11) angeordnet ist, die jeweils den Strahlengang zwischen der Abbildungsoptik (4) und der jeweiligen Kippspiegelmatrix (3, 5) zweimal faltet.




Inventors:
GEISSLER ENRICO (DE)
NIETEN CHRISTOPH DR (DE)
RUDOLPH GÜNTHER (DE)
PRETORIUS MARCO DR (DE)
Application Number:
DE102008029785A
Publication Date:
08/22/2019
Filing Date:
06/24/2008
Assignee:
Carl Zeiss Jena GmbH
International Classes:
G03B21/28; G02B27/18; G03B21/00
Domestic Patent References:
DE10127620A1N/A2002-12-12
Foreign References:
FR2899980A12007-10-19
66430692003-11-04
200702740772007-11-29
200301231622003-07-03
200402077692004-10-21
200701095072007-05-17
55596291996-09-24
WO2008068257A12008-06-12
EP12697562003-01-02
Attorney, Agent or Firm:
Patentanwälte GEYER, FEHNERS & PARTNER mbB (München, DE)